
2026/9/30 8:38:31 阅读:次
失效分析是通过技术手段找出产品失效原因、机理并提出预防措施的专业活动,广泛应用于半导体、锂电池、机械制造、航空航天等领域 。
什么是失效分析?
失效分析是对于失效元器件进行检测扫描,根据不同的需要,采用各种测试方式以及各种先进的物理、化学方式进行分析,并结合元器件失效前后的不同情况和有关的技术文件进行分析,来验证报告的失效,确定元器件失效的模式,失效的机理以及造成失效的原因。合理全面地失效分析可以分析确定失效的原因,对于器件设计、制造工艺、试验或者应用的改进具有指导作用,采用相应的措施纠正其产生的原因,从而提高产品整体的可靠性。
失效分析
半导体分立器件AEC-Q101认证试验,光电器件AEC-Q102产品试验,阻容感等元件AEC-Q200产品测试,功率模块LV/AQG 324认证试验,电子元器件破坏性物理分析(DPA),电子元器件筛选,氟油液态温度冲击认证试验,FAKRA、HSD连接器信号完整性试验,汽车音响指标试验,功率器件参数测试,PCB PCBA金相切片试验,锡须检查,材料寿命预估与可靠性检测分析服务,高分子材料失效分析服务,金属失效分析服务,金属材料检测分析服务,离子清洁度测试,焊点质量检测
失效分析通用流程(标准步骤)
信息收集
背景:服役工况(温度、载荷、介质、循环次数)、加工工艺(铸造 / 锻造 / 焊接 / 热处理、表面涂层)、失效时间、失效数量、图纸、批次、历史同类故障;
现场:拍照录像,保护失效件,禁止随意打磨、清洗断口。
外观宏观检查
肉眼 / 体视显微镜:裂纹位置、变形、腐蚀、烧蚀、磨损、断口形貌;判断失效起始源(裂纹源区是关键)。
无损检测(可选,不破坏样品)
PT 渗透、MT 磁粉、UT 超声、X 射线探伤:查找内部裂纹、气孔、夹杂。
取样制样
优先取失效源区域,同时保留完好对比试样;切割避免高温、机械损伤破坏原始形貌。
微观形貌观察
SEM 扫描电镜:断口微观形貌(韧窝、解理、沿晶、疲劳条纹),配合 EDS 能谱做元素成分分析
金相显微镜:金相组织、晶粒大小、析出相、脱碳、过热、晶间腐蚀
性能测试
硬度、拉伸、冲击、弯曲;必要做应力测试、热分析(DSC/TGA)。
成分分析
光谱 / ICP:基体元素;EDS、XPS:表面腐蚀产物、镀层元素;GC-MS 用于高分子材料。
模拟验证(可选高阶)
环境试验、疲劳试验、腐蚀试验,复现失效现象验证推断。
综合判定 + 出具报告
区分:失效模式 → 直接原因 → 根本原因;给出整改建议。
第三方检测机构

114检测,专业可靠性与EMC测试
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